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　　微弧氧化是一項新技術(shù)，其作用相信很多人都清楚，這就不一一介紹了，下面為大家說一下微弧氧化膜層是怎么形成的。

　　首先在基體表面發(fā)生化學反應(yīng)，產(chǎn)生一層陽極氧化膜。

　　當反應(yīng)電壓增加時，膜厚度會進一步增加，電壓會繼續(xù)增加，厚度會相應(yīng)增加。

　　但當反應(yīng)電壓增加到一定程度時，膜層會因無法承受工作電壓而放電和擊穿，產(chǎn)生等離子體放電。

　　反應(yīng)的高溫會熔化膜層，氧化物會在富氧環(huán)境中形成。同時，因為它在電解質(zhì)中，熔融物瞬間冷凝，在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。

　　陶瓷膜的產(chǎn)生會導致工作電壓進一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進一步增加，膜層反復生長。